绝缘体上硅晶圆,顶层硅、埋氧层与衬底厚度均可选择。

顶层硅与衬底的掺杂、电阻率、晶向以及埋氧层厚度均可分别指定。投产前我们会与您逐层确认结构。

规格参数

参数数值
直径4" / 6" / 8"
顶层硅厚度0.2 – 200 µm
埋氧层(BOX)0.1 – 5 µm
衬底厚度300 – 1000 µm
工艺键合 / 减薄

应用领域

  • MEMS 加速度计、陀螺仪及压力传感器
  • 硅光子
  • 高压及抗辐射器件

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