绝缘体上硅晶圆,顶层硅、埋氧层与衬底厚度均可选择。
顶层硅与衬底的掺杂、电阻率、晶向以及埋氧层厚度均可分别指定。投产前我们会与您逐层确认结构。
通过湿法或干法氧化生长致密、均匀的 SiO₂ 层,厚度从数十纳米到数微米。